Diseño de Precursores Moleculares Metal-Orgánicos para Deposición de Capas Atómicas
- autor: Gerkens, Dr. Jan
- Disponibilidad: En stock
- EAN: 9783863761820
€39,90
En décadas pasadas, la miniaturización de materiales era inmanente en todos los campos de la tecnología, especialmente en la industria de los semiconductores. Hoy en día, la miniaturización de compuestos semiconductores ha alcanzado un nivel en el que los procesos de fabricación establecidos alcanzan sus límites técnicos. La deposición de...
En décadas pasadas, la miniaturización de materiales era inmanente en todos los campos de la tecnología, especialmente en la industria de los semiconductores. Hoy en día, la miniaturización de compuestos semiconductores ha alcanzado un nivel en el que los procesos de fabricación establecidos alcanzan sus límites técnicos. La deposición de capa atómica (ALD) ofrece un método alternativo para la deposición de películas metálicas ultrafinas, que es un paso crucial en la fabricación de compuestos semiconductores. Basado en una reacción química entre la superficie y la fase gaseosa, ALD es un proceso que toca tanto la química sintética como las ciencias de los materiales.
Esta tesis doctoral se centra en el desarrollo de nuevos productos químicos para su uso como precursores en ALD. En el marco de una cooperación de investigación y desarrollo con BASF, se estudian y evalúan las propiedades de una nueva serie de complejos de sililamido de cobalto y níquel en solución, en estado sólido y en fase gaseosa con respecto a su uso como precursor de ALD. Además, se realizaron experimentos de deposición de calcogenuros de tantalio y molibdeno para probar la aplicación de ALD en el campo de la división electroquímica del agua.
Detalles
- Título: Diseño de precursores moleculares organometálicos para la deposición de capas atómicas
- Subtítulos: - Deposición de la capa atómica: Desafíos y oportunidades - Síntesis y caracterización de una nueva serie de complejos amido de cobalto de baja valencia - Identificación de precursores prometedores que contienen cobalto para la deposición de la capa atómica...
- Autor: Dra. Jan Gerkens
- Edición: 1ra edición
- Universidad: Universidad Georg-August de Göttingen
- Lanzamiento: 1.ª edición el 21 de diciembre de 2020
- Asunto: Química
- Tipo de producto: Libro (tapa dura)
- Tipo de producto: Disertación
- Idioma: inglés
- Encuadernación: tapa blanda (rústica)
- Dimensiones: 21,0 x 14,8 cm (DIN A5)
- Extensión: XII / 143 páginas
- Estado: Nuevo (envuelto en papel de aluminio)
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