En décadas pasadas, la miniaturización de materiales era inmanente en todos los campos de la tecnología, especialmente en la industria de los semiconductores. Hoy en día, la miniaturización de compuestos semiconductores ha alcanzado un nivel en el que los procesos de fabricación establecidos alcanzan sus límites técnicos. La deposición de capa atómica (ALD) ofrece un método alternativo para la deposición de películas metálicas ultrafinas, que es un paso crucial en la fabricación de compuestos semiconductores. Basado en una reacción química...